集成电路布图设计保护是针对微电子半导体产品拓扑结构设置的专门知识产权保护制度，主要保护具有原创性的集成电路布图设计，赋予权利人对布图设计进行商业利用、复制及许可他人利用的专有权。匈牙利建立了独立的集成电路布图设计保护制度，由匈牙利知识产权局（HIPO）负责布图设计的注册及相关行政程序。

1. HIPO

匈牙利知识产权局（Hungarian Intellectual Property Office，HIPO，匈牙利语：Szellemi Tulajdon Nemzeti Hivatala，SZTNH）是匈牙利国家知识产权主管机关，负责专利、实用新型、外观设计、商标、植物新品种及集成电路布图设计等工业产权事务，并承担部分版权及相关知识产权管理职能。HIPO成立于1896年，目前继续承担知识产权官方审查、注册及相关行政管理工作。(Hipo)

主要联系方式如下：

项目 信息

机构名称 Hungarian Intellectual Property Office（HIPO）

地址 1081 Budapest, II. János Pál pápa tér 7., Hungary

邮寄地址 1438 Budapest, Pf. 415.

电话 +36 1 312 4400

传真 +36 1 331 2596

电子邮箱 sztnh@hipo.gov.hu

(Hipo)

2. 保护条件

（1）保护对象

匈牙利集成电路布图设计保护主要依据《微电子半导体产品拓扑结构法律保护法》（Act XXXIX of 1991 on the Legal Protection of Topographies of Microelectronic Semiconductor Products）。

所谓“布图设计”（topography），是指微电子半导体产品中各元件及部分或全部互连关系的三维配置，其中至少有一个元件属于有源元件；也包括为制造半导体产品而准备的此类三维配置。(Hipo)

（2）原创性要求

只有具有原创性的布图设计才能获得保护。布图设计如果属于其创作者独立完成的智力劳动成果，并且在创作时对于布图设计创作者及半导体产业中的制造者而言并非通常设计，即可认定具有原创性。

即使布图设计由通常使用的元件组成，只要其整体排列和组合具有原创性，仍可以获得保护。(Hipo)

（3）商业利用与申请期限

匈牙利法律允许对已经进行商业利用的布图设计申请保护，但申请必须在该布图设计首次在任何国家进行商业利用之日起2年内提出。

布图设计保护的效力可追溯至申请日；如果首次商业利用日晚于申请日，则保护自申请日起生效；如果首次商业利用日早于申请日，则保护效力可追溯至首次商业利用日。(Hipo)

3. 保护范围

布图设计注册后，权利人享有对该布图设计进行商业利用或者许可他人利用的专有权。

法律意义上的“利用”主要包括：

1. 为商业目的复制布图设计，包括将其复制于半导体产品中或者以其他方式进行复制；

2. 为商业目的进口包含受保护布图设计的半导体产品；

3. 为商业目的销售或者以其他方式进行市场推广。

保护范围以注册申请中提交的布图设计图示为依据，覆盖其中具有原创性的部分以及与布图设计不可分割的组成部分。(Hipo)

下列内容原则上不属于保护范围：

* 布图设计所依据的概念、工艺和系统，以及存储在半导体产品中的信息；

* 为分析、评价或者教学目的而复制布图设计，以及基于上述行为形成的原创布图设计；

* 第三方独立创作的相同布图设计；

* 权利人或者经其同意在欧洲经济区（EEA）内投放市场的布图设计产品及包含该布图设计的半导体产品。(Hipo)

对于善意进口或者销售包含侵权布图设计的半导体产品的经营者，如果其在进口或销售时不知道且没有合理理由知道产品包含未经授权复制的布图设计，其行为不构成违法。自其知道或者应当知道侵权事实后，可以继续销售已经持有或者已经订购的库存，但应按照通常许可费标准向权利人支付相应费用。(Hipo)

4. 申请及审查程序

匈牙利集成电路布图设计保护采取注册取得保护的方式。申请人应向HIPO提交布图设计保护申请。(Hipo)

（1）申请主体

布图设计保护原则上属于创作者或者其权利继受人。多人共同创作的，保护权可以由共同创作者或者其权利继受人共同享有；多人分别独立创作相同布图设计的，则分别享有相应权利。

外国申请人能否取得保护，取决于匈牙利参加的国际条约或者互惠安排。对于不符合相关条件的外国申请人，原则上不能仅依据国内法取得保护。(Hipo)

（2）提交申请

申请应向HIPO提交，并至少包括：

* 布图设计保护申请；

* 申请人的姓名或者名称及地址；

* 能够识别布图设计本质的图示；

* 法律及实施规定要求的其他相关文件。

一项申请只能请求保护一个布图设计。(Hipo)

（3）形式审查

HIPO首先审查申请是否符合有关申请主体、申请文件、布图设计图示以及单一申请等形式要求。

如果申请文件缺少申请人姓名或地址，或者缺少足以识别布图设计本质的图示，导致无法据此产生保护权，HIPO可以直接驳回申请。对于其他形式缺陷，HIPO通常会通知申请人陈述意见、补正文件或者进行必要的分案；申请人在规定期限内未完成补正的，申请可能被驳回。(Hipo)

（4）注册及公布

如果申请符合审查要求，HIPO将对布图设计进行注册，向权利人颁发证书，并在官方公报中公布。

注册后，布图设计的图示原则上可以供公众查阅并获取副本。如果申请人将布图设计图示标记为商业秘密，则可以依法限制其公开范围；在法律规定的程序中，有关当事人仍可以依法查阅。(Hipo)

5. 保护期限

集成电路布图设计保护期限为10年。

保护期限原则上从申请日起计算；如果该布图设计此前已经在任何国家进行商业利用，则保护效力可以追溯至首次商业利用日。无论如何，申请保护必须在首次商业利用之日起2年内提出。(Hipo)

6. 费用

根据HIPO公布的《19/2005.（IV.12.）GKM号法令》现行整合文本，集成电路布图设计保护申请费为：

项目 现行费用

集成电路布图设计保护申请 43,000福林

撤销、无效等相关程序 190,000福林

申请补正、期限延长等程序还可能产生相应行政服务费。原资料所列32,000福林申请费已经过时，应以现行43,000福林标准为准。(Hipo)

7. 制度特点

匈牙利集成电路布图设计保护制度具有以下特点：

1. 实行专门法保护。 集成电路布图设计属于独立的工业产权客体，由专门法律规定其保护条件、权利范围和保护期限。

2. 以原创性为核心保护条件。 布图设计必须体现创作者自身的智力劳动成果，并且在创作时并非产业领域中的通常设计。

3. 采取注册取得保护制度。 布图设计权通过向HIPO提出申请并完成注册而产生，并具有一定的追溯效力。

4. 商业利用具有特殊时间限制。 布图设计即使已经进行商业利用，仍可以申请保护，但必须在首次商业利用之日起2年内提出申请。

5. 保护期限为10年。 与专利、外观设计等工业产权相比，布图设计保护具有相对独立的期限规则。

6. 保护范围以图示确定。 保护重点在于布图设计本身的原创性结构和配置，而不延伸至其背后的概念、工艺、系统或者其中存储的信息。

7. 兼顾产业创新和合法商业流通。 法律同时规定独立创作、分析研究、教学以及欧洲经济区内权利耗尽等限制，避免布图设计专有权对正常技术研究和市场流通造成过度限制。

原文链接：https://ipr.mofcom.gov.cn/hwwq_2/zn/Europe/Hun/IC.html